將深度學習技術應用於服飾搭配與設計 Appier展示AI在服裝設計領域的創造力

Appier研究團隊至紐奧良參與美國人工智慧年會（AAAI）。
（左起為Appier資料科學家張楷岳、施詠翔、Appier首席資料科學家林軒田。）

文、圖／Appier提供

　　當人工智慧（AI）化身具創造力的時尚引擎－－專精於人工智慧的新創公司沛星互動

科技（以下簡稱 Appier）於第32屆美國人工智慧年會（AAAI）中，針對「AI創造力」發表前瞻性研究成果，展現AI在服裝搭配與設計領域的突破性進展。許多人認為，人工智慧技術的下一個重大突破將實現在其創造與設計能力，而Appier這次的研究成果則實踐了該想法－－在不久的將來，AI將能掌握設計脈動並貢獻各種創意構想，成為設計師的得力助手。

　　今年代表Appier參與AAAI的研究團隊是由Appier資料科學家施詠翔、張楷岳、Appier首席資料科學家林軒田和國立清華大學電機系孫民教授所組成。團隊透過深度學習技術設計Projected Compatibility Distance（PCD）數學模型去自動學習與分析服飾搭配原則，了解服飾造型之間的搭配關係與技巧，讓機器擁有類似人類的創意以及穿搭思維。

　　同時，團隊將PCD模型接上生成對抗網路（Generative Adversarial Networks, GANs），讓電腦透過辨識與分析現有的圖像，產生獨特新穎的設計服飾。這些由AI所設計的服飾，能夠真實反映出設計師的創意理念與搭配技巧。

Appier於2018美國人工智慧年會（AAAI）中展示AI在服裝搭配與設計領域的創造力

　　Appier執行長暨共同創辦人游直翰表示：「這次Appier團隊的研究成果，展現了AI在實現創造力方面的重大進展。一直以來，Appier希望將AI帶到人類生活的各個面向，其中也包含了創意的展現。不過，這並不代表AI將帶來威脅，相反地，它將能為設計師提供許多協助。在Appier，我們鼓勵所有員工針對各種具有研究價值與發展潛力的AI創新研究專案與學界進行交流，進而消弭產學間的資訊落差。這次團隊所合力完成的前瞻性研究論文能被AAAI所收錄，就是一個藉由產學合作激發AI創新研發能量的實例。」

　　Appier首席資料科學家林軒田表示：「Appier將人工智慧運用在克服『服飾搭配與設計』這個挑戰，主要是因為服飾穿搭本身就有一定的複雜程度，而這個應用在商業領域也具有相當大的發展性。因此，我們運用深度學習模型以及生成對抗網路（GANs），來驗證AI在創意面向所展現的潛力。在實驗中，由AI所設計與搭配的服飾很輕易地就獲得大多數受試者的喜愛，給了我們很大的鼓舞！」

• 由Appier研發團隊所撰寫並以「Compatibility Family Learning for Item Recommendation and Generation」為主題之論文，可至此處下載。

【關於Appier】

Appier是一家專注於人工智慧的科技公司，藉由開發各種人工智慧應用平台，協助企業解決最棘手的商業挑戰。欲了解更多資訊，請造訪 www.appier.com/zh/index.html。

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